鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)（真空鍍膜冷卻水降溫）工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

　　中頻設(shè)備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng)，電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時會產(chǎn)生高溫會使射qiang變形，所以它有一個水套來冷卻射qiang。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運(yùn)動規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。

　　真空鍍膜機(jī)冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其工作原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水，通過制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達(dá)到冷卻的作用。冷卻水溫可根據(jù)要求自動調(diào)節(jié)。 冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到高精度、有效控制溫度的目的。

　　真空鍍膜機(jī)在鍍膜的時候，由于真空泵和擴(kuò)散泵發(fā)熱，所以我們需要使用冷水機(jī)冷卻，真空鍍膜機(jī)選配冷水機(jī)需要注意的幾點：

　　1、真空鍍膜機(jī)冷水機(jī)的水泵壓力需要加大。

　　2、真空鍍膜機(jī)水泵，蒸發(fā)器，管路需要使用不銹鋼的；因為真空鍍膜機(jī)的載冷劑是純水。

　水冷式冷水機(jī)規(guī)格參數(shù)

風(fēng)冷式冷水機(jī)規(guī)格參數(shù)