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電鍍后處理的目的是確保鍍層的質(zhì)量，提高鍍層的防護性、裝飾性和功能性。鍍后處理是很重要的，但往往易被人忽視。在實際生產(chǎn)中常出故障，甚至前功盡廢，故應引起有關(guān)人員重視。

電鍍后處理工藝是根據(jù)電鍍層的性能、使用要求、環(huán)境影響等因素來選定，通常有拋光、鈍化、著色、涂膜、封閉、除氫等工藝。

常見鍍后處理：

拋光處理

      拋光是通過化學拋光或機械拋光來提高金屬工件表面的平整性和降低表面粗糙度的工藝過程，它既能直接用于金屬的表面加工，也用于金屬工件鍍前處理及鍍后精加工。如銅、鎳等合金以及鍍后的銅、鎳、鉻等金屬鍍層的裝飾性精加工。

真空蒸鍍

真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，上海鍍銀，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù)，具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能等優(yōu)點。

蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核、長大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學鍵合。將基片放入真空室內(nèi)，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團）。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運動飛速傳送至基片，到達基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴散，表面鍍銀，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團，有的可能在表面短時停留后又蒸發(fā)。粒子簇團不斷地與擴散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過程反復進行，當聚集的粒子數(shù)超過某一臨界值時就變?yōu)榉€(wěn)定的核，再繼續(xù)吸附擴散粒子而逐步長大，終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并，形成連續(xù)薄膜。

常用電鍍用塑膠材料為ABS和PC/ABS，大家都知道，材料組分中影響電鍍性能的的就是其中的橡膠相；而內(nèi)應力對材料中橡膠相的粗化刻蝕影響則分兩個方面；

A.橡膠形態(tài)的變化：在高應力狀態(tài)下，會使樹脂中的橡膠相處于拉伸狀態(tài)（非自然狀態(tài)），刻蝕后就破壞了刻蝕孔洞的原有的設計結(jié)構(gòu)，降低了電鍍層與材料的鉚合效應；

B.耐化學品性下降：在高應力狀態(tài)下，樹脂的耐化學性會下降，從而導致在刻蝕過程中，容易造成刻蝕過度的問題發(fā)生，銅鍍銀，進而使產(chǎn)品表面在內(nèi)應力較大的部位，形成的凹坑過于致密，影響刻蝕均勻性，再進一步即導致塑件表面鍍層鉚合效應低；

由以上分析可以看出，高注塑內(nèi)應力影響了材料的粗化刻蝕狀態(tài)，進而破壞了表面鍍層與基材的鉚合，鍍銀哪家好，終的表現(xiàn)就是材料的電鍍性能的下降。因此可以說，高成型內(nèi)應力，是材料電鍍性能的！

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